О журнале

Журнал основан в 1965 г.

Выходит 6 раз в год.

Учредители: Российская академия наук, Институт физической химии и электрохимии РАН.

Издатель: Российская академия наук, г. Москва, Ленинский проспект, 14.

Главный редактор – Цивадзе Аслан Юсупович, академик РАН, доктор химических наук.

В журнале публикуются материалы, касающиеся теоретических и прикладных аспектов проблем физической химии поверхности, новых материалов, их поведения в различных условиях и окружениях, управления их свойствами, контроля и защиты от деградации и воздействия окружающей среды.